Epitaxial (EPI) Silicon Wafer Featured Image

ఎపిటాక్సియల్ (EPI) సిలికాన్ వేఫర్

వివరణ

ఎపిటాక్సియల్ సిలికాన్ వేఫర్లేదా EPI సిలికాన్ వేఫర్, ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల ద్వారా సిలికాన్ సబ్‌స్ట్రేట్ యొక్క పాలిష్ చేయబడిన క్రిస్టల్ ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేయబడిన సెమీకండక్టింగ్ క్రిస్టల్ పొర యొక్క పొర.ఎపిటాక్సియల్ పొర సజాతీయ ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ ద్వారా సబ్‌స్ట్రేట్‌తో సమానమైన పదార్థం కావచ్చు లేదా వైవిధ్య ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ ద్వారా నిర్దిష్ట కావాల్సిన నాణ్యతతో కూడిన అన్యదేశ పొర కావచ్చు, ఇందులో రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ CVD, లిక్విడ్ ఫేజ్ ఎపిటాక్సీ LPE, అలాగే పరమాణు పుంజం ఉన్నాయి. తక్కువ లోపం సాంద్రత మరియు మంచి ఉపరితల కరుకుదనం యొక్క అత్యధిక నాణ్యతను సాధించడానికి epitaxy MBE.సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ వేఫర్‌లు ప్రధానంగా అధునాతన సెమీకండక్టర్ పరికరాల ఉత్పత్తిలో ఉపయోగించబడతాయి, అధిక సమీకృత సెమీకండక్టర్ మూలకాలు ICలు, వివిక్త మరియు శక్తి పరికరాలు, బైపోలార్ రకం, MOS మరియు BiCMOS పరికరాల వంటి IC కోసం డయోడ్ మరియు ట్రాన్సిస్టర్ లేదా సబ్‌స్ట్రేట్ యొక్క మూలకం కోసం కూడా ఉపయోగించబడుతుంది.ఇంకా, బహుళ లేయర్ ఎపిటాక్సియల్ మరియు మందపాటి ఫిల్మ్ EPI సిలికాన్ పొరలు తరచుగా మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్, ఫోటోనిక్స్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్స్ అప్లికేషన్‌లో ఉపయోగించబడతాయి.

డెలివరీ

వెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో ఎపిటాక్సియల్ సిలికాన్ వేఫర్‌లు లేదా EPI సిలికాన్ వేఫర్‌ను 4, 5 మరియు 6 అంగుళాల పరిమాణంలో (100mm, 125mm, 150mm వ్యాసం) అందించవచ్చు, ఓరియంటేషన్ <100>, <111>, ఎపిలేయర్ రెసిస్టివిటీ <1ohm -cm లేదా 150ohm-cm వరకు, మరియు ఎపిలేయర్ మందం<1um లేదా 150um వరకు, ఎచెడ్ లేదా LTO ట్రీట్‌మెంట్ యొక్క ఉపరితల ముగింపులో వివిధ అవసరాలను తీర్చడానికి, బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో క్యాసెట్‌లో ప్యాక్ చేయబడుతుంది లేదా ఖచ్చితమైన పరిష్కారానికి అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌గా ఉంటుంది. .

ఇప్పుడు విచారణ

వివరాలు

టాగ్లు

సాంకేతిక నిర్దిష్టత

ఎపి సిలికాన్ వేఫర్

ఎపిటాక్సియల్ సిలికాన్ పొరలులేదా వెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో EPI సిలికాన్ వేఫర్ 4, 5 మరియు 6 అంగుళాల పరిమాణంలో (100mm, 125mm, 150mm వ్యాసం), <100>, <111>, ఎపిలేయర్ రెసిస్టివిటీ <1ohm-cm లేదా 150ohm-సెం.మీ వరకు, మరియు ఎపిలేయర్ మందం<1um లేదా 150um వరకు, ఎచెడ్ లేదా LTO చికిత్స యొక్క ఉపరితల ముగింపులో వివిధ అవసరాలను తీర్చడానికి, బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో క్యాసెట్‌లో ప్యాక్ చేయబడుతుంది లేదా ఖచ్చితమైన పరిష్కారానికి అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌గా ఉంటుంది.

చిహ్నం	Si
పరమాణు సంఖ్య	14
అటామిక్ బరువు	28.09
మూలకం వర్గం	మెటాలాయిడ్
సమూహం, కాలం, బ్లాక్	14, 3, పి
క్రిస్టల్ నిర్మాణం	డైమండ్
రంగు	ముదురు బూడిద
ద్రవీభవన స్థానం	1414°C, 1687.15 K
మరుగు స్థానము	3265°C, 3538.15 K
300K వద్ద సాంద్రత	2.329 గ్రా/సెం³
అంతర్గత నిరోధం	3.2E5 Ω-సెం.మీ
CAS నంబర్	7440-21-3
EC నంబర్	231-130-8

నం.	వస్తువులు	స్టాండర్డ్ స్పెసిఫికేషన్
1	సాధారణ లక్షణాలు
1-1	పరిమాణం	4"	5"	6"
1-2	వ్యాసం mm	100 ± 0.5	125 ± 0.5	150 ± 0.5
1-3	ఓరియంటేషన్	<100>, <111>	<100>, <111>	<100>, <111>
2	ఎపిటాక్సియల్ లేయర్ లక్షణాలు
2-1	వృద్ధి పద్ధతి	CVD	CVD	CVD
2-2	వాహకత రకం	P లేదా P+, N/ లేదా N+	P లేదా P+, N/ లేదా N+	P లేదా P+, N/ లేదా N+
2-3	మందం μm	2.5-120	2.5-120	2.5-120
2-4	మందం ఏకరూపత	≤3%	≤3%	≤3%
2-5	రెసిస్టివిటీ Ω-సెం	0.1-50	0.1-50	0.1-50
2-6	రెసిస్టివిటీ ఏకరూపత	≤3%	≤5%	-
2-7	డిస్‌లోకేషన్ cm-2	<10	<10	<10
2-8	ఉపరితల నాణ్యత	చిప్, పొగమంచు లేదా నారింజ తొక్క అవశేషాలు మొదలైనవి లేవు.
3	సబ్‌స్ట్రేట్ లక్షణాలను నిర్వహించండి
3-1	వృద్ధి పద్ధతి	CZ	CZ	CZ
3-2	వాహకత రకం	పి/ఎన్	పి/ఎన్	పి/ఎన్
3-3	మందం μm	525-675	525-675	525-675
3-4	మందం ఏకరూపత గరిష్టంగా	3%	3%	3%
3-5	రెసిస్టివిటీ Ω-సెం	అవసరానికి తగిన విధంగా	అవసరానికి తగిన విధంగా	అవసరానికి తగిన విధంగా
3-6	రెసిస్టివిటీ ఏకరూపత	5%	5%	5%
3-7	TTV μm గరిష్టంగా	10	10	10
3-8	విల్లు μm గరిష్టంగా	30	30	30
3-9	వార్ప్ μm గరిష్టంగా	30	30	30
3-10	EPD cm-2 గరిష్టంగా	100	100	100
3-11	ఎడ్జ్ ప్రొఫైల్	గుండ్రంగా	గుండ్రంగా	గుండ్రంగా
3-12	ఉపరితల నాణ్యత	చిప్, పొగమంచు లేదా నారింజ తొక్క అవశేషాలు మొదలైనవి లేవు.
3-13	బ్యాక్ సైడ్ ఫినిష్	చెక్కిన లేదా LTO (5000±500Å)
4	ప్యాకింగ్	లోపల క్యాసెట్, బయట కార్టన్ బాక్స్.

సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ పొరలుఆధునిక సెమీకండక్టర్ పరికరాలు, అత్యంత సమీకృత సెమీకండక్టర్ ఎలిమెంట్స్ ICలు, వివిక్త మరియు పవర్ పరికరాల ఉత్పత్తిలో ప్రధానంగా ఉపయోగించబడతాయి, అలాగే బైపోలార్ రకం, MOS మరియు BiCMOS పరికరాల వంటి IC కోసం డయోడ్ మరియు ట్రాన్సిస్టర్ లేదా సబ్‌స్ట్రేట్ యొక్క మూలకం కోసం ఉపయోగించబడుతుంది.ఇంకా, బహుళ లేయర్ ఎపిటాక్సియల్ మరియు మందపాటి ఫిల్మ్ EPI సిలికాన్ పొరలు తరచుగా మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్, ఫోటోనిక్స్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్స్ అప్లికేషన్‌లో ఉపయోగించబడతాయి.