అధిక స్వచ్ఛత టిన్

వివరణ

అధిక స్వచ్ఛత టిన్ Sn5N 6N 7N అణు బరువు 118.71, సాంద్రత 7.28g/సెం.మీతో వెండి తెల్లని నిగనిగలాడే మృదువైన మరియు వాసన లేని ఘన లోహం³మరియు ద్రవీభవన స్థానం 231.88°C, ఇది నీటిలో కరగదు కానీ వేడి నీటిలో కొద్దిగా కరుగుతుంది మరియు పలుచన హైడ్రోక్లోరిక్ యాసిడ్‌లో కరుగుతుంది మరియు టిన్ ఆక్సైడ్ ప్రొటెక్టివ్ ఫిల్మ్ పొరను ఉత్పత్తి చేయడానికి గాలిలో స్థిరంగా ఉంటుంది, అయితే వేడి చేసినప్పుడు ఆక్సీకరణ ప్రతిచర్య వేగవంతం అవుతుంది.అధిక స్వచ్ఛత టిన్‌ను అనేక ఉత్తేజకరమైన అనువర్తనాల కోసం 99.999%, 99.9999% మరియు 99.99999% స్థాయికి శుద్ధి చేయడం మరియు జోన్-ఫ్లోటింగ్ లేదా క్రిస్టల్ గ్రోత్ టెక్నిక్ యొక్క శుద్ధీకరణ ప్రక్రియ ద్వారా బార్, కడ్డీ మరియు షాట్‌గా శుద్ధి చేయవచ్చు.

టిన్ షాట్ (టిన్ పెల్లెట్, గ్రాన్యూల్, బీడ్, బాల్)వాసన లేని మరియు వెండి తెలుపు నిగనిగలాడే మృదువైన ఘన, కంటి కన్నీటి షాట్ 99.9%, 99.99% స్వచ్ఛత, అధిక స్వచ్ఛత షాట్ 99.999%, 99.9999% స్వచ్ఛత 1-6 మిమీ వ్యాసం.టిన్ షాట్, గుళికలు, గ్రాన్యూల్, పూస, కరిగే డ్రాప్, కండెన్సేషన్ మరియు గ్రాన్యులేషన్ ద్వారా ఉత్పత్తి చేయబడిన బాల్, ఏకరీతి గ్రాన్యులేషన్ పరిమాణం, చిన్న అసమానత మరియు మృదువైన ఉపరితలంతో అధిక నాణ్యత గల టిన్ షాట్‌ను పొందడానికి.

డెలివరీ

వెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో హై ప్యూరిటీ టిన్ Sn 5N 6N 7N 99.999% 99.9999% మరియు 99.99999% స్వచ్ఛతతో ముద్ద, ముక్క, షాట్, కడ్డీ 500g లేదా 1000g, బార్ మరియు క్రిస్టల్ పరిమాణంలో పంపిణీ చేయబడుతుంది.99.9% మరియు 99.99% స్వచ్ఛత స్థాయితో టిన్ షాట్ 3N 4N (టిన్ పెల్లెట్, గ్రాన్యూల్, బీడ్, బాల్) కూడా అందించవచ్చు.వివిధ గ్రేడ్‌లలోని టిన్ ఉత్పత్తులు బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో మిశ్రమ అల్యూమినియం బ్యాగ్‌లో ప్యాక్ చేయబడతాయి లేదా ఖచ్చితమైన పరిష్కారాన్ని చేరుకోవడానికి అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌గా ఉంటాయి.

ఇప్పుడు విచారణ

వివరాలు

టాగ్లు

సాంకేతిక నిర్దిష్టత

Sn

పరమాణు నం.	50
అటామిక్ బరువు	118.71
సాంద్రత	7.31గ్రా/సెం³
ద్రవీభవన స్థానం	231.9°C
మరుగు స్థానము	2270°C
CAS నం.	7440-31-5
HS కోడ్	8007.0090.00

సరుకు	స్టాండర్డ్ స్పెసిఫికేషన్
	స్వచ్ఛత		అపరిశుభ్రత (ICP-MS లేదా GDMS పరీక్ష నివేదిక, PPM గరిష్టంగా ఒక్కొక్కటి)
అధిక స్వచ్ఛతటిన్	5N	99.999%	Co/Au 0.1, In/Si/S 0.2, Al/Ag/Cu/Mg/Ni/Ca/Fe/Zn/Bi/Sb 0.5, Pb/As 1.0	మొత్తం ≤10
	6N	99.9999%	Co/Ag/Au 0.01, Cu/Al/Mg/Ni/Pb/Ca/Fe/Zn 0.05	మొత్తం ≤1.0
	7N	99.99999%	Ag/Cu/Au 0.001, Al/Mg/Ni 0.005, Ca/Fe 0.01, Zn 0.02	మొత్తం ≤0.1
	పరిమాణం		1-6mm షాట్, (50x14x14)/50g బార్ లేదా (100x50x30)/1kg బార్, కడ్డీ
	ప్యాకింగ్		1kg లేదా 1pcs వాక్యూమ్డ్ సీల్డ్ ప్లాస్టిక్ బ్యాగ్‌లో, బయట కార్టన్ బాక్స్‌లో ఉంది
టిన్ షాట్	3N	99.90%	As/Cu/Cd 80, Fe 70, Pb 320, Bi 150, Sb 200, Zn/Al 10, S 5, Ag/Ni+Co 50	గుళిక/షాట్
	4N	99.99%	As/Cu/Al 5.0, Fe 20, Pb 35, Bi 25, Sb 15, Cd/Zn/S 3.0, Ag 1.0, Ni+Co 6.0	గుళిక/షాట్
	పరిమాణం		1-6మి.మీ షాట్ లేదా కణిక కన్నీటి ఆకారంతో
	ప్యాకింగ్		20కిలోలు సీలు చేసిన ప్లాస్టిక్ సంచిలో లోపల ప్లైవుడ్ కేస్ లేదా బయట కార్టన్ బాక్స్.

అధిక స్వచ్ఛత టిన్ 5N 6N 7Nవెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో 99.999% 99.9999% మరియు 99.99999% స్వచ్ఛతతో 1-6mm షాట్, 50g, 500g లేదా 1000g బార్ పరిమాణంలో మరియు క్రిస్టల్ రూపంలో పంపిణీ చేయవచ్చు.

3N 4N 99.9% మరియు 99.99% స్వచ్ఛత స్థాయి కలిగిన టిన్ షాట్ (టిన్ పెల్లెట్, గ్రాన్యూల్, బీడ్, బాల్) కూడా అందించవచ్చు.

వివిధ గ్రేడ్‌లలోని టిన్ ఉత్పత్తులు బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో మిశ్రమ అల్యూమినియం బ్యాగ్‌లో ప్యాక్ చేయబడతాయి లేదా ఖచ్చితమైన పరిష్కారాన్ని చేరుకోవడానికి అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌గా ఉంటాయి.

అధిక స్వచ్ఛత టిన్ఎలక్ట్రానిక్ ఇన్ఫర్మేషన్, ఏరోస్పేస్ మరియు న్యూక్లియర్ పరిశ్రమ వంటి అధునాతన సాంకేతికతలలో వివిధ రూపాల్లో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.అధిక స్వచ్ఛత టిన్ 99.99%, 99.999%, 99.9999% మరియు 99.99999% PVD, MBE, E-బీమ్ మరియు వాక్యూమ్ డిపాజిషన్ టెక్నాలజీ ద్వారా అధునాతన థిన్ ఫిల్మ్ డిపాజిషన్‌కు కీలకమైన మూల పదార్థంగా మారింది మరియు ITO పౌడర్ మరియు టార్గెట్ , కాంపౌండ్ సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్‌ల కోసం ఉపయోగించబడుతుంది. టిన్ సెలెనైడ్ SnSe, మరియు టిన్ టెల్యురైడ్ SnTe మొదలైనవి, అధిక స్వచ్ఛత మిశ్రమాలు, సూపర్-కండక్టింగ్ మెటీరియల్స్, ఎలక్ట్రానిక్ సోల్డర్‌లకు మిశ్రమం సంకలితం, తేలియాడే గాజు ఉత్పత్తి, పూత పదార్థం, ఆటోమోటివ్ కోసం అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధక భాగాలు మరియు సిలికాన్ మరియు జెర్మేనియం సింగిల్ క్రిస్టల్‌ల డోపాంట్‌గా ఎలక్ట్రానిక్ పరిశ్రమలో వృద్ధి.