Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ ZrO₂ |హాఫ్నియం ఆక్సైడ్ HfO₂ 99.9%

వివరణ

జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ ZrO₂, లేదా జిర్కోనియం డయాక్సైడ్, నీటిలో ఆచరణాత్మకంగా కరగదు మరియు HCl మరియు HNO లలో కొంచెం కరుగుతుంది₃, ద్రవీభవన స్థానం 2700°C, సాంద్రత 5.85g/సెం³, అధిక ద్రవీభవన స్థానం, అధిక నిరోధకత, అధిక వక్రీభవన సూచిక మరియు తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం లక్షణాలతో వాసన లేని క్రిస్టల్, ఇది ముఖ్యమైన అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధక పదార్థాలు, సిరామిక్ ఇన్సులేటింగ్ పదార్థాలు, సిరామిక్ సన్‌స్క్రీన్‌లు మరియు కృత్రిమ రత్నాల కోసం ముడి పదార్థాలు.ZrO₂చల్లని, పొడి మరియు బాగా వెంటిలేషన్ ప్రదేశంలో ఉంచవలసిన సాధారణ వస్తువులు, కంటైనర్‌ను గట్టిగా మూసివేయండి మరియు బలమైన క్షారానికి దూరంగా ఉంచండి.జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ ZrO₂సాధారణంగా మెటల్ జిర్కోనియం మరియు జిర్కోనియం సమ్మేళనాలు, అధిక ఫ్రీక్వెన్సీ సిరామిక్స్, రాపిడి పదార్థాలు, సిరామిక్ పిగ్మెంట్లు, వక్రీభవన పదార్థం మరియు ఆప్టికల్ గ్లాస్ తయారీకి ఉపయోగిస్తారు.

డెలివరీ

జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ లేదా జిర్కోనియం డయాక్సైడ్ ZrO₂ZrO యొక్క స్వచ్ఛతతో₂+HfO₂≥ 99.9% మరియు హాఫ్నియం ఆక్సైడ్ HfO₂HfO స్వచ్ఛతతో₂+ZrO₂వెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో ≥99.9% 60-150మెష్ పౌడర్ పరిమాణంలో, బయట కార్డ్‌బోర్డ్ డ్రమ్‌తో ప్లాస్టిక్ బ్యాగ్‌లో 25 కిలోలు లేదా అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌లో పంపిణీ చేయవచ్చు.

ఇప్పుడు విచారణ

వివరాలు

టాగ్లు

సాంకేతిక నిర్దిష్టత

ZrO₂& HfO₂

జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ లేదా జిర్కోనియం డయాక్సైడ్ ZrO₂ ZrO యొక్క స్వచ్ఛతతో₂+HfO₂≥ 99.9% మరియు హాఫ్నియం ఆక్సైడ్ HfO₂HfO స్వచ్ఛతతో₂+ZrO₂వెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో ≥99.9% 60-150మెష్ పౌడర్ పరిమాణంలో, బయట కార్డ్‌బోర్డ్ డ్రమ్‌తో ప్లాస్టిక్ బ్యాగ్‌లో 25 కిలోలు లేదా అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌లో పంపిణీ చేయవచ్చు.

వస్తువులు	HfO₂	ZrO₂
స్వరూపం	వైట్ పౌడర్	వైట్ పౌడర్
పరమాణు బరువు	210.49	123.22
సాంద్రత	9.68 గ్రా/సెం³	5.85 గ్రా/సెం³
ద్రవీభవన స్థానం	2758 °C	2700 °C
CAS నం.	12055-23-1	1314-23-4

నం.	అంశం			స్టాండర్డ్ స్పెసిఫికేషన్
1	స్వచ్ఛత			అశుద్ధం (PCT గరిష్టంగా ఒక్కొక్కటి)	పరిమాణం
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99.9%	Si 0.01, Fe 0.001, Ti/Na 0.002, U/Th 0.005	60-150 మెష్
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99.9%	Fe/Si 0.002, Mg/Pb/Mo 0.001, Ca/Al/Ni 0.003, Ti 0.007, Cr 0.005	100 మెష్
4	ప్యాకింగ్			బయట కార్డ్‌బోర్డ్ డ్రమ్‌తో ప్లాస్టిక్ సంచిలో 25 కిలోలు

హాఫ్నియం ఆక్సైడ్ HfO₂, లేదా హాఫ్నియం డయాక్సైడ్, హాఫ్నియం యొక్క సమ్మేళనం, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, ద్రవీభవన స్థానం 2758°C, సాంద్రత 9.68g/సెం.³, నీటిలో కరగదు, HCl మరియు HNO₃, కానీ H లో కరుగుతుంది₂SO₄మరియు HF.హాఫ్నియం ఆక్సైడ్ HfO₂విస్తృత బ్యాండ్ గ్యాప్ మరియు అధిక విద్యుద్వాహక స్థిరాంకం కలిగిన సిరామిక్ పదార్థం.హాఫ్నియం ఆక్సైడ్ HfO₂MOSFETలో సాంప్రదాయ SiO₂/Si నిర్మాణం యొక్క అభివృద్ధి యొక్క పరిమాణ పరిమితి సమస్యను పరిష్కరించడానికి మెటల్ ఆక్సైడ్ సెమీకండక్టర్ ఫీల్డ్ ఎఫెక్ట్ ట్యూబ్ యొక్క గేట్ ఇన్సులేటర్ సిలికాను భర్తీ చేసే అవకాశం ఉంది, కాబట్టి ఇది మైక్రోఎలక్ట్రానిక్ ఫీల్డ్‌లో ఉపయోగించే అధునాతన పదార్థం.ఇది హాఫ్నియం మెటల్, హాఫ్నియం సమ్మేళనాలు, వక్రీభవన పదార్థం, యాంటీ-రేడియోయాక్టివ్ పూత పదార్థం మరియు ఉత్ప్రేరకం తయారీకి కూడా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.