అధిక స్వచ్ఛత టెల్లూరియం

వివరణ

అధిక స్వచ్ఛత టెల్లూరియంTe 5N 6N 7N 7N5, ఒక అణు బరువు 27.60, సాంద్రత 6.24g/సెం.మీతో వాసన లేని మరియు వెండి తెల్లని మెరిసే స్ఫటికాకార ఘన పదార్థం³ మరియు ద్రవీభవన స్థానం 449.8°C, మరియు సల్ఫ్యూరిక్ యాసిడ్, నైట్రిక్ యాసిడ్, ఆక్వా రెజియా, పొటాషియం హైడ్రాక్సైడ్ మరియు పొటాషియం సైనైడ్ ద్రావణంలో కరుగుతుంది, కానీ నీటిలో మరియు తటస్థ ద్రావకంలో కరగదు.టెల్లూరియం నీరు లేదా నాన్-ఆక్సిడేటివ్ యాసిడ్‌తో ఎటువంటి ప్రతిచర్యను కలిగి ఉండదు కానీ టెల్లూరియం హాలైడ్‌లను ఉత్పత్తి చేయడానికి హాలోజన్‌లతో హింసాత్మకంగా ప్రతిస్పందిస్తుంది.టెల్లూరియం ఒక p-రకం సెమీకండక్టర్ మరియు దాని వాహకత కాంతి బహిర్గతానికి సున్నితంగా ఉంటుంది.వివిధ రూపాల్లో అధిక స్వచ్ఛత టెల్లూరియం 99.999%, 99.9999%, 99.99999% మరియు 99.999995% గ్రేడ్‌కు వాక్యూమ్ డిస్టిలేషన్ మరియు జోన్ రిఫైనింగ్ ప్యూరిఫికేషన్ లేదా క్రిస్టల్ పుల్లింగ్ గ్రోత్ పద్ధతి ద్వారా తయారు చేయబడింది, ఇది ప్రధానంగా II-VI తయారీ సమ్మేళనంలో సెమీకండక్ట్‌ను పెంచడంలో ఉపయోగించబడుతుంది. CdTe, Cd వంటి అనేక రకాల ఎలక్ట్రానిక్ మరియు ఆప్టికల్ పరికరాలు_1-xZn_xన్యూక్లియర్ రేడియేషన్ డిటెక్షన్, ఫోటో రిఫ్రాక్టివిటీ మరియు IR మరియు ఎక్స్-రే డిటెక్టర్ల కోసం Te, మరియు ఆప్టికల్ స్టోరేజ్ మెటీరియల్, సౌర ఘటాలు, థర్మోఎలెక్ట్రిక్ కన్వర్షన్ ఎలిమెంట్స్, రిఫ్రిజిరేషన్ భాగాలు, గ్యాస్ సెన్సిటివిటీ, ప్రెజర్ సెన్సిటివ్ మరియు లైట్ సెన్సిటివ్, పైజోఎలెక్ట్రిక్ క్రిస్టల్ కోసం విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. మరియు ఇతర ప్రాథమిక పదార్థాలు, అలాగే MBE వృద్ధికి బాష్పీభవన మూలం.

డెలివరీ

వెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో హై ప్యూరిటీ టెల్లూరియం 5N(99.999%), 6N(99.9999%), 7N(99.99999% మరియు 7N5( 99.999995)% షాట్, లంప్, చంక్, బార్ మరియు క్రిస్టల్ పరిమాణంలో సరఫరా చేయబడుతుంది. బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో ఆర్గాన్ గ్యాస్ రక్షణతో నిండిన మిశ్రమ అల్యూమినియం బ్యాగ్‌లో ప్యాక్ చేయబడతాయి లేదా ఖచ్చితమైన పరిష్కారాన్ని చేరుకోవడానికి అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌గా ఉంటాయి.

ఇప్పుడు విచారణ

వివరాలు

టాగ్లు

సాంకేతిక నిర్దిష్టత

Te

అధిక స్వచ్ఛత టెల్లూరియంవెస్ట్రన్ మిన్‌మెటల్స్ (SC) కార్పొరేషన్‌లో 5N 6N 7N 7N5 (99.999%, 99.9999%, 99.99999% మరియు 99.999995%) షాట్, లంప్, చంక్, బార్ మరియు క్రిస్టల్ మొదలైన వాటి పరిమాణం, టెల్లూరియం మరియు టెల్లూరియం పౌడర్ పరిమాణంలో సరఫరా చేయబడుతుంది. టెల్లూరియం షాట్ 3N 4N 5N (99.9%, 99.99% మరియు 99.999%) పరిమాణంలో -80, -120, -200, -325 మరియు -700మెష్ పౌడర్, 1-6mm గ్రాన్యూల్ మరియు షాట్.టెల్లూరియం ఉత్పత్తులు మిశ్రమ అల్యూమినియం బ్యాగ్‌లో నిండిన ఆర్గాన్ గ్యాస్ ప్రొటెక్షన్‌లో బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో ప్యాక్ చేయబడతాయి లేదా ఖచ్చితమైన పరిష్కారాన్ని చేరుకోవడానికి అనుకూలీకరించిన స్పెసిఫికేషన్‌గా ఉంటాయి.

సరుకు	స్టాండర్డ్ స్పెసిఫికేషన్
	స్వచ్ఛత		అపరిశుభ్రత (ICP-MS లేదా GDMS పరీక్ష నివేదిక, PPM గరిష్టంగా ఒక్కొక్కటి)
అధిక స్వచ్ఛత టెల్లూరియం	5N	99.999%	Al/Mg/Ni/Pb/Fe/Si 0.1, Ag/Cu/Cd 0.2, Se 1.0	మొత్తం ≤10
	6N	99.9999%	Al/Mg/Ni/Pb/Cd/Fe/Se 0.01, Ca 0.02, Zn 0.1, Ag/Cu 0.002	మొత్తం ≤1.0
	7N	99.99999%	Al/Mb/Ni/Pb/Se 0.005, Ag/Cu 0.001, Ca/Cd/Fe/Si 0.01, Ag/Cu 0.001	మొత్తం ≤0.1
	7N5	99.999995%	MBE అప్లికేషన్ కోసం క్రిస్టల్ పుల్లింగ్ గ్రోత్	మొత్తం ≤0.05
	పరిమాణం		500g/1000g అర్ధగోళ భాగం, ≤10mm లేదా ≥10mm ముద్ద
	ప్యాకింగ్		1kg మిశ్రమ అల్యూమినియం ఫాయిల్ బ్యాగ్‌లో ఆర్గాన్ గ్యాస్, బయట కార్టన్ బాక్స్‌తో నిండి ఉంది.
టెల్లూరియం పౌడర్ కణిక	3N	99.90%	Cu/Fe/S/Pb 50, Al/Si 30, Mg 20, Bi 15, As 10	షాట్/పౌడర్
	4N	99.99%	Mg/Si/Ca/As/Bi/Sb/S/Pb/Se 10, Al/Cu/Ni/ Fe/Ti 1	షాట్/పౌడర్
	5N	99.999%	Ag/Cu/Cd 0.2, Al/Mg/Ni/Pb/Fe/Sn 0.10, Se 1.0	షాట్/గ్రాన్యుల్
	పరిమాణం		పౌడర్ -80, -120, -200, -325, -700మెష్, షాట్/గ్రాన్యుల్ 1.0-1.5, 2.0-6.0మిమీ
	ప్యాకింగ్		ప్లాస్టిక్ సంచి/సీసాలో 2.0-2.5కిలోలు, 20కిలోల కార్టన్ బాక్స్

పరమాణు నం.	52
అటామిక్ బరువు	127.6
సాంద్రత	6.24గ్రా/సెం³
ద్రవీభవన స్థానం	449.5°C
మరుగు స్థానము	989.8°C
CAS నం.	13494-80-9
HS కోడ్	2804.5000

టెల్లూరియం పౌడర్, టెల్లూరియం గ్రాన్యూల్ మరియు టెల్లూరియం షాట్3N 4N 5N, సిల్వర్-వైట్ మెటాలిక్ మెరుపు ఘన పదార్థం, వివిధ గ్రేడ్ మరియు పరిమాణంలో మెటలర్జికల్ మరియు ఎలక్ట్రానిక్ పరిశ్రమలో అప్లికేషన్‌లను పెంచడానికి 99.9%, 99.99% మరియు 99.999% స్వచ్ఛతతో అందుబాటులో ఉన్నాయి.టెల్లూరియం పౌడర్, టెల్లూరియం గ్రాన్యూల్ మరియు టెల్లూరియం షాట్‌లను టెల్లూరియం సమ్మేళనాలు, ఉత్ప్రేరకం మరియు ఎలక్ట్రానిక్స్ పరిశ్రమ మరియు మెటలర్జికల్ అప్లికేషన్‌ల ఉత్పత్తికి విస్తృతంగా ఉపయోగిస్తున్నారు.టెల్లూరియం గ్రాన్యూల్ లేదా టెల్లూరియం షాట్ అనేది రసాయన మూలకాల విశ్లేషణకు మరియు మెటలర్జికల్ స్మెల్టింగ్ కోసం సంకలితంగా ఉపయోగించే కీలక పదార్థం.